Fuentes de plasma

Las fuentes de plasma son dispositivos diseñados para crear plasma . La creación de plasma requiere al menos una ionización parcial de átomos neutros y/o moléculas del medio. En tecnología, por regla general, se utilizan ciertos tipos de descarga de gas para crear plasma .

Las fuentes de plasma de alta presión (desde 1000 Pa hasta la presión atmosférica y, en raras ocasiones, superior) se denominan sopletes de plasma o sopletes de plasma. En ellos, por regla general, el plasma se forma en una cámara de descarga especial, a través de la cual se sopla el gas formador de plasma. La descarga de arco o inducción más utilizada . Para potencias pequeñas (hasta varios kW), también son habituales las antorchas de plasma de microondas .

Las fuentes de plasma para bajas presiones no tienen un nombre común y se clasifican según el principio de funcionamiento:

• Arco:
  • cátodo frío ;
  • con cátodo calentado ;
  • de dos etapas;
• Basado en una descarga de haz de plasma , en particular con un cátodo hueco ;
• acoplado inductivamente :
  • con bobina en forma de solenoide ;
  • con una bobina plana;
  • basado en la descarga de helicones
• Acoplado capacitivamente
• Basado en la descarga de microondas , incluido el uso de:
  • resonancia de ciclotrón de electrones ;
  • descarga en una onda superficial ;
• Basado en la descarga en campos cruzados:
  • manantiales de Hall;
  • fuentes con una capa de ánodo.

Las fuentes de plasma tienen muchas aplicaciones, en particular las fuentes de luz y el procesamiento de materiales con plasma.

Véase también

• Plasmatrón
• fuente de iones
• tratamiento con plasma

Literatura

• Fuentes de plasma de alta densidad Popov OA : diseño, física y rendimiento. - Mill Road, Park Ridge, Nueva Jersey, EE. UU.: Publicaciones Noyes, 1995.
• Gabovich MD Plasma fuentes de iones. - Kyiv: Naukova Dumka, 1964. - 224 p.

• Zhukov M. F. Calentadores de gas de arco eléctrico (plasmatrones). - M. : Nauka, 1973. - 232 p.

• Barchenko V. T. Fuentes tecnológicas de plasma de arco de vacío. - San Petersburgo. : Editorial de la Universidad Electrotécnica de San Petersburgo "LETI", 2013. - 242 p. — ISBN 978-5-7629-1366-9 .

• Aksenov II Arco de vacío: fuentes de plasma, deposición de revestimiento, modificación de superficies. - Kyiv: Naukova Dumka, 2012. - 727 p.

• Popov VF, Gorin Yu. N. Procesos e instalaciones de tecnología de iones de electrones. - M. : Superior. escuela, 1988. - 255 p. — ISBN 5-06-001480-0 .

• Vinogradov M.I., Maishev Yu.P. Procesos de vacío y equipos para tecnología de haz de iones y electrones. - M. : Mashinostroenie, 1989. - 56 p. - ISBN 5-217-00726-5 .