Tratamiento con plasma

El procesamiento de plasma es el proceso de procesamiento de materiales utilizando plasma de baja temperatura generado por arco o sopletes de plasma de alta frecuencia para cambiar la forma, el tamaño, la estructura del material que se procesa o el estado de su capa superficial. Las variedades de procesamiento de plasma son: separación y corte de superficies, recubrimiento, rociado, soldadura [1] .

Las subespecies de tratamiento con plasma son:

• activación de plasma ;
• Implantación de iones de inmersión en plasma
• modificación de plasma ;
• grabado con plasma ;
• pulverización de plasma ;
• soldadura por plasma ;
• corte por plasma ;
• polimerización por plasma ;
• funcionalización de plasma ;
• depósito de vapor químico de plasma ;
• Terminación de endurecimiento por plasma .

Galería

• Corte por plasma

• Realización de agujeros con plasma (perforación con plasma)

• Pulverización de plasma al vacío

• El esquema para establecer la pulverización de plasma: 1- Cátodo . 2 - Suministro de material en polvo. 3 - Partes del polvo. 4 - Partes fundidas del polvo. 5 - Objeto pulverizado. 6 - Forro. 7 - Gas formador de plasma. 8 - Ánodo . 9 - Arco de plasma. 10 - Chorro de plasma con partículas de polvo.

• Esquema de la instalación de soldadura por plasma: 1 - Gas formador de plasma. 2 - Boquilla protectora. 3 - Chorro. 4 - Electrodo. 5 - Boquilla de estrechamiento. 6 - Arco eléctrico.

• Equipos de tratamiento de superficies con plasma (limpieza)

Notas

1. ↑ Kovshov A.N. Tecnología de ingeniería. - M., Mashinostroenie, 1987. - pág. 290

Literatura

• • Sosnin N. A., Ermakov S. A., Topolyansky P. A.  Tecnologías de plasma. Guía para ingenieros. Editorial de la Universidad Politécnica. San Petersburgo: 2013. - 406 p.
  • Ivanovsky G. F. , Petrov V. I. Procesamiento de materiales por plasma iónico. - M. : Radio y comunicación, 1986.
  • D. Tolliver, R. Nowitzki, D. Hess y otros; ed. N. Einspruck, D. Brown. Tecnología de plasma en la producción de VLSI. — M .: Mir, 1987. — 469 p.
  • Danilin BS, Kireev V. Yu. Aplicación de plasma de baja temperatura para grabado y limpieza de materiales. - M. : Energoatomizdat, 1987. - 263 p.
  • Danilin B.S. El uso de plasma de baja temperatura para la deposición de películas delgadas. — M .: Energoatomizdat, 1989. — 328 p.
  • Popov VF, Gorin Yu. N. Procesos e instalaciones de tecnología de iones de electrones. - M. : Superior. escuela, 1988. - 255 p. — ISBN 5-06-001480-0 .
  • Vinogradov M.I., Maishev Yu.P. Procesos de vacío y equipos para tecnología de haz de iones y electrones. - M. : Mashinostroenie, 1989. - 56 p. - ISBN 5-217-00726-5 .